Ag4CuO-Lot auf einer mit TiH2 angereicherten MgAl - Spinellschicht
| Schleifmittel | Körnung | Geschwindigkeit [U/min] | Zeit |
|---|---|---|---|
| SiC-Naßschleifpapier | 220 | 200 | bis Probe plan |
| SiC-Naßschleifpapier | 320 - 1200 | 200 | jeweils 10 sec |
Zum Schutz der offenporigen, porösen etwa 100µm dicken TiH2 Spinellschicht wurde diese vor dem Trennen mit der Diamantdrahtsäge von Well (Typ 3241) mit dem UV aushärtenden Haftvermittler Demotec 200 versiegelt. Das Einbetten erfolgte in Epoxiharz, weil die Probe nach der Präparation im Rasterelektronenmikroskop mittels EDX-Analyse untersucht werden sollte. Auf Grund dessen ist von einer Endpolitur mit Tonerde oder einer SiO2-Suspension abzusehen. Um dennoch eine exzellente Probenoberfläche zu erhalten fand die Finishpolitur mit der 0,15 µm Liquimant® - FS plus Diamantsuspension statt. Diese wird nicht so häufig während des Poliervorganges auf das Tuch aufgebracht, wie es üblicherweise mit der SiO2-Suspension geschieht. Bei einer Polierzeit von 4 Minuten reicht ein 2-3 maliges Beträufeln mit der 0,15 µm Diamantsuspension aus.
Es ist grundsätzlich darauf zu achten, dass die Poliertücher vor dem Aufbringen der Diamantsuspension leicht angefeuchtet sind.
Diamantsuspension (etwa 2 ml) wurde jeweils nur zu Beginn dem Polierprozesses zugeführt.
Als Schmierflüssigkeit kam ausschließlich Wasser zum Einsatz.
| Unterlage | Poliermittel | Körnung | Probenandruck [N] | Geschwindigkeit [U/min] | Zeit [min] |
|---|---|---|---|---|---|
| Silkoflex | Color - Diamant Suspension | 6 µm | 15 | 150 mitläufig | 4 |
| Silkoflex | Color - Diamant Suspension | 3 µm | 10 | 150 mitläufig | 4 |
| Mikromant® genoppt | Color - Diamant Suspension | 1 µm | 10 | 150 mitläufig | 4 |
| Mikromant® genoppt | Liquimant® FS plus | 0,15 µm | 10 | 150 mitläufig | 4 * |
| * Zusätzlich 30 Sekunden spülen mit Wasser | |||||
